超聲波細胞粉碎機在我們生活中運用領域很廣泛，但是大家卻不懂的去保養(yǎng)。要知道任何儀器在使用完不進行清洗是影響其壽命的重要因素，所以今天就跟大家說說超聲波細胞粉碎儀常見的幾種清洗方式，話不多說下面讓我們一起來了解一下吧。
1、溶劑清洗
比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用;但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。
2、鍍膜前清洗
鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油，求芯也稱定芯、取芯，指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。
由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴格，因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時，還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。
鍍膜前的清洗一般也采用與研磨后清洗相同的方式，分為溶劑清洗和半水基清洗等方式。工藝流程及所用化學藥劑類型如前所述。
3、鍍膜后清洗
一般包括涂墨前清洗、接合前清洗和組裝前清洗，其中接合前清洗(接合是指將兩片鏡片用光敏膠粘接成規(guī)定的形狀，以滿足無法一次加工成型的需求，或制造出較為特殊的曲率、透光率的一道工序)要求嚴格。
接合前要清洗的污染物主要是灰塵、手印等的混合物，清洗難度不大，但對于鏡片表面潔凈度有非常高的要求，其清洗方式與前面兩個清洗工藝相同。
4、半水基清洗
近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng);設備上的配套裝置更少;使用周期比溶劑要更長;在運行成本上比溶劑更低。
半水基清洗劑突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。 它的缺點就是清洗的速度比溶劑稍慢，并且必須要進行漂洗。
上述內(nèi)容便是本次為大家分享關于超聲波細胞粉碎機的清洗方法，希望各位在看完本篇之后能夠在之后的使用過程中更多的使用把握，感謝您的觀看和支持，后期會整理更多資訊給大家，敬請關注我們的網(wǎng)站更新。
